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重大突破!天源环保取得半导体废水处理方法及系统专利,产水回用率达90%

 环保联盟

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据国家知识产权局公告,武汉天源环保股份有限公司取得一项名为“一种半导体废水处理方法及系统“,授权公告号CN116282699B,申请日期为2023年3月。

专利摘要显示,本发明公开了一种半导体废水处理方法及系统。该半导体废水处理方法包括:分类收集:将半导体废水分为酸性废水、碱性废水、含氟废水、含砷废水和有机废水进行收集;分质预处理:中和酸性废水和碱性废水,去除含砷废水中的三价砷和单质磷,去除含氟废水中的氟离子;MBR膜处理:将分质预处理后的酸性废水、碱性废水、含砷废水、含氟废水和有机废水进入MBR膜生物反应器,初步去除废水中的污染物;RO分离净化:将经MBR膜生物反应器处理后的废水进入RO分离净化器,去除废水中残余的杂质,得到干净的回收水。

本发明先将各种废水进行分质预处理,实现各类污染物的分级去除,再依次经MBR膜处理、RO分离净化处理,产水回用率达90%。

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