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最近，来自美国能源部（DOE）阿贡国家实验室的研究人员描述了多种基于 AI 的方法来自动优化 ALD 工艺。详细说明了每种方法的相对优势和劣势，以及可用于更有效、更经济地开发新流程的见解。ALD 擅长在复杂的 3D 表面上生长精确的纳米级薄膜，例如在硅晶片上形成图案的深而窄的沟槽，以制造当今的计算机芯片。这促进了科学家为下一代半导体器件开发新的薄膜 ALD 材料。人工智能方法有效地确定了不同模拟 ALD 工艺的最佳剂量和清洗时间。这使得这项研究成为第一批表明使用 AI 可以实时优化薄膜的研究。
