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半导体产业链中,这些环节最急需国产替代!

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【半导体设备】

1、单晶炉:国产化率低于20%。国内代表企业:晶盛机电

2、光刻机:国产化率低于10%。国内代表企业:芯碁微装

3、刻蚀机:国产化率约为10%。国内代表企业:中微公司、北方华创、神工股份

4、离子注入设备:国产化率低于10%。国内代表企业:万业企业

5、CVD/PVD设备:国产化率约为10-15%。国内代表企业:北方华创

6、氧化扩散设备:国产化率低于10%。国内代表企业:北方华创

7、键合机:国产化率低于10%。国内代表企业:奥特维

8、划片机:国产化率低于20%。国内代表企业:奥特维

9、减薄机:国产化率低于20%。国内代表企业:暂无

10、检测设备:国产化率低于20%。国内代表企业:精测电子、长川科技、华兴源创、赛腾股份

11、分选机:国产化率低于20%。国内代表企业:长川科技、奥特维

【半导体材料】

1、电子气体&MO源:对外依存度80%以上。国内代表企业:昊华科技、华特气体、金宏气体、南大光电、雅克科技、三孚股份

2、CMP抛光液:国产化率低于10%。国内代表企业:安集科技

3、CMP抛光垫:国产化率低于5%。国内代表企业:鼎龙股份

4、超纯试剂:国产化率30%。国内代表企业:晶瑞股份、江化微、上海新阳

5、溅射靶材:主要依赖进口。国内代表企业:江丰电子、隆华科技、有研新材

6、硅晶片:以6寸以下为主,少量8寸,12寸依赖进口。国内代表企业:沪硅产业、中环股份、中晶科技

7、光刻胶:以LCD、PCB为主,集成电路用光刻胶主要靠进口,对外依存度80%以上。国内代表企业:晶瑞股份、南大光电、彤程新材、容大感光、上海新阳

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