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根据中国新闻网19日报道，长春光机所突破光科技核心部件“光学投影物镜”制造关键技术，实现了中国超精密光学物镜技术的跨越式发展。今年七八月份的时候，有报道说长春应化所开始研发光刻胶，这个光刻胶大概率是EUV光刻胶。光刻机四大件，物镜，光源，和双工件台，控制软件，最难的是光源，目前的进度应该是镜片和光源都取得了突破。 在中国半导体行业的“突围战”中，长春光机所承担了重要角色。1996年长春光机所报道了18.2nm的EUV光学成像曝光装置，这是中国半导体行业的高光一年，也让长春光机所成为25年后的“希望”。
