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电子束光刻系统可实现2D材料的精确“图案化”

 芯圈那些事

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丹麦技术大学(DTU)与 Graphene Flagship 研究团队开发一种可将纳米材料制造工艺提升到新水平的新技术。据悉,2D 材料的精确“图案化”,是利用其机型计算和存储的一种方法。

DTU Nanolab 的电子束光刻系统,已经能够实现 10nm 的工艺精度。计算机能够准确预测石墨烯中图案的形状和大小,以创造新型电子产品。

它们可以利用电子的电荷和量子特性 —— 比如自旋和谷自由度 —— 以通过低得多的功耗来开展高速计算。

然而这些计算要求的分辨率,较现有最强的光刻系统所能实现的分辨率更高一级 —— 即原子级的解析力。

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