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在半导体工艺进入10nm节点之后，EUV工艺是必不可少的，但是EUV光刻机价格高达10亿一台，而且产量有限，导致芯片生产成本很高。 日本铠侠公司现在联合伙伴开发了新的工艺纳米压印微影技术(NIL)，可以不使用EUV光刻机，工艺直达5nm。因NIL的微影制程较单纯，耗电量可压低至EUV生产方式的10%，并让设备投资降低至40%。
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