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光刻机的重要性不言而喻，没有光刻机就造不了芯片，目前，全球光刻机已由荷兰ASML、日本尼康和佳能公司完全垄断。据芯思想研究院（ChipInsights）数据，2020年上述三家公司半导体用光刻机出货413台，较2019年的359台增加54台，涨幅为15%。其中，ASML公司出货258台，占比62.47%；尼康公司出货31台，占比7.51%；佳能公司出货122台，占比29.54%。 根据光刻机领域的数据来看，全球市场上百分之九十的份额都被国外的巨头公司所掌控。其中，在高端的光刻机领域，ASML公司更是一家独秀，它制造的EUV光刻机是其他公司都制造不出来的。生产一台EUV光刻机需要用上10万个零部件，背后还有5000家供应商的支持。要知道EUV光刻机是唯一可以生产7nm芯片的设备，缺少这种光刻机的话，就没有办法生产出高制程芯片。 近日，我国源卓微电子装备有限公司举办了DiSS系列数字光刻机投产仪式，其将在湖南常德启动总投资2亿元的生产线项目，主要投产自主研发的DiSS数字步进扫描光刻机，2022年预计年产150台设备。 DiSS数字光刻机的全称是Digital-Step-Scan，根据需求而言，源卓微电子的DiSS数字步进扫描光刻机拥有强大的应用能力，和主流的EUV，DUV光刻机不同，它的应用范围虽然小众，却也能发挥重要的产业价值。 目前，源卓微电子掌握的设备还包括DiSS-28D，DiSS-35T等系列产品，算上2022年投产的项目，预计将在DiSS系列取得更大的产业突破。 在一定程度上来看，源卓微电子自研的DISS数字光刻机正式投产的意义非常重大，不仅可以助力国产半导体产业，而且还补齐了我们在光刻机基础技术和供应体系等方面的短板。 DISS数字光刻机虽不是高端光刻机，也解决不了国内市场的芯片危机。但是，这足以证明ASML的担忧正在应验，就算没有图纸，我们也可以生产出光刻机。 虽然我们制造出整台EUV光刻机还有一段距离，但是随着每一项技术的进步，都在奠定国产光刻机的未来，加速国产光刻机的发展。而且推动了国产光刻机从成熟工艺到高端工艺的迈进。 一旦成功掌握，中国可能会生产出更便宜，成本更低的光刻机设备。事实证明，外界的限制因素只会让国产科技发展得更快，没有什么力量是可以阻止国产科技崛起的。
