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光刻机为什么难造,看看它拆掉外壳的样子,看着就让人

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光刻机为什么难造,看看它拆掉外壳的样子,看着就让人头大,看到的大部分只是它的管线 机械部分,内部更是精密到纳米级别的零件。

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行业内大神太多,我不是光刻机行业的,但是对生产工艺略知道一点点。以我了解的情况,光刻机这种设备原理看起来挺简单,但是工艺要求到变态级别。ASML这种原理国内高校几年前就摸透了,但是想实现同级别量产,还有非常非常大的距离。最大的难点是稳定的工艺,高阶光刻机对精度、稳定性要求太高了。举个例子,给你一套设备,调试成稳定生产都要一年时间。
我国光刻机产业还是非常薄弱,短期内不能完成全产业链自主研发
这个玩意还是可以弄出来的,没有原理性的瓶颈以及专利的掣肘下,就是精细活,耗费的只是时间和金钱。关键是你弄出来不撕破脸还不好用,为啥,专利限制多啊,很多还绕不过去。你说里面哪个我们的确搞不出来。那个二氧化碳光源还有那个发射锡球那个外行看着高深其实很简单啊,就是压电陶瓷喷嘴,锡球温度又不高,速度也不高,频率也不高,伺服难度也不高,这不早就很成熟的东西,高速摄像机加静电锡球伺服可以在指定位置百发百中,研究所干这个很擅长啊。那个asml也不是自己单独弄,找小厂子做的。那个镜片就是花功夫用离子抛光一个一个修,这个设备和工艺咱们早有了啊,然后用干涉仪找精度,镀膜机特殊设计,中间再找精度,需要改镀膜设备;那个工作台磁悬浮的就是精细的活,但是无任何摩擦甚至空气阻力,滞回,固定质量,这是个很纯粹的控制对象和干净的控制条件,光栅板自己也可以做啊,绝对精度不行但可以补偿啊;镜片安装电容传感器+压电或者电热伺服+几个严格训练的本科工程师天天耗在那儿老老实实按照工艺流程组装。这其实就是老外很多所谓高科技产品的一贯套路吗,他们工资也没多高的。以上这些大家看下来,有哪个是因为我们不了解的高深基础控制理论和自然规律或者加工能力检测设备造成的障碍?我看还是缺一套机制让各个院所踏踏实实做起来,说白了这个玩意就是因为太多变态的精细活凑一块儿了,需要不少院所耗费太多的时间和功夫,不适合挣快钱。课题发下去了,也是发论文+靠课题挣钱+谋官。而不是奔着把这个机器搞出来的目标。当然现在肯定是动起来了,只是搞出来也是作为筹码,就是干死你那种,你不服不行那种,真要用,对方又唧唧歪歪的说你侵犯他专利了。哎,这世道,没有谁能随随便便成功啊,况且一个国家。
最新得EUV 光刻机,平整度采用得磁悬浮技术。光线得反射板,平整度达到原子级,不能有一个原子是凸出的。
光刻机可见的未来我们一定能造出来,但是核武器,第二代第三代核武器可见的未来除了中美俄法英谁也造不出来。
说白了一个最大的难点是,在纳米尺度上没有任何东西可以被认为是刚性的你是用一堆果冻做成的投影仪把一块果冻上的图案投在另一块高速移动的果冻上光刻机大部分的工程问题归根到底就是在解决变形和断裂的问题

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