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ASML新一代EUV光刻机:机型比上一代大出30%,大小如同双层巴士

 科技少年QAQ

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半导体设备巨头ASML的新一代High-NA EUV设备订价约4亿美元,折合27亿人民币。据悉该设备精密度更高、所使用的零部件更多,机型比上一代大出30%,大小如同双层巴士。

为克服技术挑战,ASML正与全球最大的微电子研发机构IMEC共同建立测试实验室。据悉,ASML原型机将在2023年上半年完成。ASML对外表示,2021年第四季度已收到5个预定High-NA EUV的订单。

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