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为了实现在2nm世代制造更精细的半导体,我们需要具

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为了实现在2nm世代制造更精细的半导体,我们需要具有高产能和高数值孔径 (High-NA) 的下一代 EUV 曝光系统。为此,Van den Hove介绍说,IMEC正在与全球最大的半导体曝光设备制造商荷兰ASML进行联合研究,荷兰ASML是唯一的EUV制造商。
芯片制造工艺可到0.2nm吗?你怎么看待这个问题?

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销售额翻倍,超过1万亿美圆? 确定不是做梦?
新一代有很多突破,至于我们搞光源的说到底就是更高的能量转化率,更多的EUV功率,更高的稳定性。实现这些从基本原理上来说一两句话就能说清楚,难就难在细节上了。每个子系统都有优化。平台一旦搭建起来,在上面迭代终归不是特别难的事情。至于对芯片产业的影响,其实归根到底还是在制程和良品率上。功率和稳定性提高,良品率就能提高,相应的成本也就能降低,如此而已。至于革命性的突破那个是没有的。更多的就不能多说了。
当年选择了方便,现在便要万倍努力才能尝试追到别人的尾巴,希望大陆不要再那么浮躁了,需要脚踏实地的、一步一步的干了。
应该还能支撑半年。后面估计就是靠自己了。现在不比去年,现在芯片开始产能过剩,冲击不会很大。

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