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国产半导体设备再获突破,已突破5nm大关!

 微观人

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据悉中微半导体设备(上海)股份有限公司制造的5nm刻蚀机已完成量产准备,下半年就将交付给台积电投入使用,这是国产芯片制造产业链的又一个重大突破。

刻蚀机正是中国在芯片制造产业链中进展最快的环节,其他环节如今才刚进展到14nm,光刻机更是还在攻坚28nm,而刻蚀机已完成7nm工艺,如今再进一步到5nm工艺,刻蚀机可谓是中国芯片制造产业链最成功的技术创新。

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回复微观人:刻蚀机不能单独使用,需要与EUV光刻机配合使用,我们没有EUV光刻机,当前能使用5nm刻蚀机的只有三星、台积电、Intel,除了卖给台积电还能卖给谁?
回复微观人:光刻机和刻蚀机,技术方面肯定有共同点,集全国力量专攻光刻机,不要太高,一步步来,终能攻克

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