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芯片制造新技术:日本突破纳米压印技术,ASML的时代或被“终结”

 电子芯技术

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芯片制造离不开光刻机,但是光刻机设备昂贵,制造难度大,且高端EUV光刻机仅掌握在ASML手中。

日本另辟蹊径,东京理科大学学者在纳米压印技术上取得了突破,完成紫外硬化纳米压印创建10nm以下分辨率形貌突破。10nm也许不是终点,再往下还有可能突破7nm甚至是5nm。

光刻机也许不是唯一能造芯片的工具,纳米压印技术提供了另一种思路,而且正在从理论走向实践,相关的成果也有可能在未来的某一天落地。

到那时候,一旦有了纳米压印技术设备的支持,ASML的时代或将“终结”。ASML引以为傲的EUV光刻机或不再是唯一。

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回复电子芯技术:高兴不能太早,日本的技术也是受美国操控的,对我们国家摆脱美国的打压没有多大利好。还是靠我们自己的科研人员发奋努力,打破垄断,奔向伟大光明的前景。
回复电子芯技术:如果日本起来美国必定打压把技术独占或者共享,中国必须靠自己!

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