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近日，美国一家旨在开发和商业化原子精密制造技术的公司Zyvex Labs 宣布推出了全球分辨率最高的亚纳米分辨率光刻系统“ZyvexLitho1”。其并没有采用EUV光刻技术，而是基于STM扫描隧道显微镜，使用的是电子束光刻（EBL）方式，可以制造出具有0.768nm线宽（相当于2个硅原子的宽度）的芯片，精度远超EUV光刻机。根据官网介绍，目前其正在接受系统的订单，交货时间约为六个月，但具体售价未知。
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