回复微观人：光刻机是高投入高回报但也是高研发。挣的利润都投入研发了。半导体制造不可能一直用光刻机，材料、架构和制造工艺都会不断推陈出新，做好基础研究，一步一个脚印，总有一天中国会造出属于自己的EUV光刻机。
微观人
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据外媒Bits & Chips报道，ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示，目前公司正有序推行其路线图，在EUV之后是High-NA EUV技术。ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机，大概会在明年某个时间点完成。 与现有的EUV光刻机相比，High-NA EUV光刻机将更为耗电，从1.5兆瓦增加到2兆瓦。主要原因是因为光源，High-NA使用了相同的光源需要额外0.5兆瓦，ASML还使用水冷铜线为其供电。
