回复电子放大镜：虽然EBL电子束光刻机的精度可以轻松超过EUV光刻机，但是，这种技术的缺点也很明显，那就是产量很低，无法大规模制造芯片，只适合制作那些小批量的高精度芯片或者器件，指望它们取代EUV光刻机也不现实。
电子放大镜
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据悉，本周美国公司Zyvex使用电子束光刻技术制造了768皮米，也就是0.7nm的芯片。 该系统被Zyvex命名为ZyvexLitho1，它是EBL电子束光刻方式，制造出了0.7nm线宽的芯片，这个精度是远高于EUV光刻系统的，相当于2个硅原子的宽度，是目前全球已知最高精度的光刻系统了。 该系统制造的芯片应用场景为量子计算机，量子计算机对于精度的要求那是极其的苛刻的。国内在量子芯片较出名的应该是——图灵量子，目前由无锡滨湖区政府引进，坐落在滨湖区的科技中心。 此番美国制造出0.7nm芯片，其技术的领先性可见一斑！国内的半导体行业发展，竞争与压力均是重重，真的是任重而道远。
