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未来NAND闪存堆叠超1000层?

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10月5日,三星在美国加州硅谷举办2022年三星科技日,并展示了一系列尖端的半导体解决方案。在此次活动中,三星首次推出了其第8代V-NAND(512Gb),位密度提高了42%,在迄今为止的512Gb三级单元(TLC)内存产品中达到了业界最高的位密度。该公司表示,全球最高容量的1Tb TLC V-NAND将于今年年底向客户提供。三星还透露了其他产品的进度。

NAND方面,目前,三星正在量产第7代Vertical NAND(V-NAND)闪存,其第九代V-NAND正在开发中,并计划从2024年开始量产第9代NAND闪存。

为了增加存储容量,美光、铠侠等公司在NAND闪存领域的层数竞争中愈演愈烈,三星称,到2030年,公司设想堆叠超过1000层,以更好地支持未来的数据密集型技术。

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