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康奈尔大学的工程师和材料科学家在他们的实验室设备套件中增加了一种最先进的工具,以帮助研究氧化镓,这种材料通常被视为碳化硅和氮化镓的继承者,是许多电力电子应用的首选半导体。 材料科学与工程助理研究教授哈里·奈尔(Hari Nair)的Duffield Hall实验室于6月30日开始运行Agnitron Agilis 100金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统。它已经被专门校准,以创建氧化镓薄膜,一种因其处理高电压、功率密度和频率的能力而备受珍视的半导体材料。这些特性使其成为电动汽车、可再生能源和5G通信等应用的理想材料。