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2028年问世,可产出7nm芯片 俄科学院称将自行开发光刻机

 电子芯技术

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据俄罗斯下诺夫哥罗德策略发展机构公文,俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所 (IPF RAS) 正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备,并对外夸下海口:这套光刻机能够使用7nm生产芯片,可于2028年全面投产。

据介绍,他们计划在六年内制作出光刻机的工业原型,首先要在2024年开发一台alpha机器。这一阶段的重点不在于其工作或解决的高速性,而在于所有系统的全面性。

然后,到2026年,alpha应该被Beta所取代。届时所有系统都将得到改进和优化,分辨率也将得到提升,生产力也将提高,许多操作将实现机械自动化。这一阶段重要的是要将其集成到实际的技术流程中,并通过“拉起”适合其他生产阶段的设备对其进行调试。

第三步也就是最后一步,将为光刻机带来更强的光源、改进的定位和馈送系统,并使得这一套光刻系统能够快速准确地工作。

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回复电子芯技术:走自己的路,俄罗斯就是在2028年能生产出7nm工艺光刻机,也是俄罗斯的,关键是我们自己什么时候能生产高端光刻机。有些人把光刻机描绘得比登天还难,目的就是让人望而却步!相信中国人的智慧,相信中国制造,相信没有几年功夫咱大中国就可以攻克难关,阿斯麦没有什么牛逼的。

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