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俄罗斯科学院表示2028年自行研发的光刻机将问世，可生产出7nm芯片。俄罗斯政府推出一项国家计划，希望2030年开发28纳米制程，希望靠着对外国芯片进行逆向工程，并培养当地半导体人才。俄罗斯科学院纳米结构研究所副所长表示，全球光刻机领导者ASML近20年来一直致力于EUV光刻机，目标是让世界顶尖半导体厂商保持极高的生产效率。但俄罗斯并不需要，只要根据俄罗斯国内的需求向前推进即可。
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