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华为 EUV 光刻新专利公开,解决相干光无法匀光问题

 微观人

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华为周二公布了一项新专利,展示了一种《反射镜、光刻装置及其控制方法》,而这种方法便能够解决相干光因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题,在极紫外光的光刻装置基础上进行了优化,进而达到匀光的目的。

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回复微观人:华为申请的这项专利并不是制造EUV光刻机的专利,而是EUV光刻机的其中一个部分的专利,这如果在更极致的技术上占有专利,就可以反手同步掣肘美国。

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