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华为公布一项于光刻技术相关的专利:新型光刻装置包含3大系统

 显微星球

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近日,据国家知识产权局官网消息,华为技术有限公司于11月15日公布了一项于光刻技术相关的专利,专利申请号为202110524685X。

据披露,该专利申请提供一种反射镜、光刻装置及其控制方法,涉及光学领域,能够解决相干光因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题,在极紫外光的光刻装置基础上进行了优化,进而达到匀光的目的。

该光刻装置包括相干光源1、反射镜2(也可以称为去相干镜)、照明系统3。其中,反射镜2可以进行旋转;例如,可以在光刻装置中设置旋转装置,反射镜2能够在旋转装置的带动下发生旋转,如图所示。

在该光刻装置中,相干光源1发出的光线经旋转的反射镜2的反射后,通过照明系统3分割为多个子光束并投射至掩膜版4上,以进行光刻。另外,在光刻装置中,上述照明系统3作为重要组成部分,其主要作用是提供高均匀性照明(匀光)、控制曝光剂量和实现离轴照明等,以提高光刻分辨率和增大焦深。述照明系统3的匀光功能可以是通过科勒照明结构实现。

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回复显微星球:美国自己也造不出光刻机,只是掌握相关专利,可以称作为专利流氓,相信我们的科学家一定能造出自己的光刻机而且是最顶尖的光刻机。

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