回复电子芯技术:只要是人能做到的,假以时日,中国人一定能。我们不比西方差。攻克了芯片制造程序又一难关,希望不久将制造出中国知识产权的光刻机!
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近日,华中科技大学(华中大)披露,华中大机械学院刘世元教授团队成功研发我国首款完全自主可控的OPC软件。 光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺,通过光刻成像系统,将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小,硅片上的曝光图形会产生畸变。在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前,都必须采用一类名为OPC(光学临近校正)的算法软件进行优化。没有OPC,所有IC制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产品的能力。 刘世元介绍,“没有OPC,即使用了光刻机,也造不出芯片。”OPC软件即“光学邻近校正软件”,是芯片设计工具EDA的一种。 目前,全球OPC工具软件市场完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美国公司占领。如今,随着华中大科研团队成功研发全国首款OPC软件,填补了国内空白,未来也将助力我国芯片制造业发展。