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复旦大学突破CFET晶体管技术,有望绕开EUV光刻工艺!

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复旦大学团队将新型的二维原子晶体,成功引入传统的硅基芯片制造当中,成功实现了对于CFET晶体管技术的突破,这将有效帮助国产芯片摆脱EUV工艺的依赖!

复旦大学选择从芯片设计上入手,对能够大幅提升密度的三维叠层互补晶体管(CFET)技术进行研发,硅基二维异质集成叠层晶体管技术被提出,引入到传统的硅基芯片制造当中,4英寸大规模三维异质集成互补场效应晶体管成功制备,集成密度在同等节点上实现翻倍,优越的器件性能直接体现了出来。

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