电子芯技术
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比利时微电子研究中心（Imec）执行副总裁Jo De Boeck在日本国际半导体展（SEMICON Japan）说明摩尔定律的推进仍然有效。据今年参展设备业者透露，台积电的先进制程应会跟随Imec揭露的技术蓝图推进，2024年后进入2纳米世代，2028年进入10埃米世代。 设备商预期，台积电位于竹科宝山的Fab 20会是2纳米生产重镇，后续将会在台湾续建14埃米及10埃米晶圆厂，长线来看资本支出仍会维持上升趋势。 Imec指出，未来10年仍可维持每2年微缩一个制程节点的速度前进，预期2026年将进入埃米（angstorm）时代，2032年透过晶体管结构创新可进入5埃米。 有关摩尔定律是否有效的争论仍然存在，但随着极紫外光（EUV）的高数值孔径（High-NA）微影技术获得突破，逻辑芯片制程的微缩可望在未来10年维持每2年一个世代的步调推进。同时，配合晶体管架构的创新，imec预期先进制程可望在2032年进入5埃米世代，之后仍有机会往3埃米或2埃米方向发展。 而随着埃米世代制程微缩，也需要新一代EUV微影技术及新世代材料支持。目前艾司摩尔（ASML）正与台积电、英特尔、三星等合作投入新一代High-NA的EUV技术开发，预期2025年后加强版2纳米可望先行试用，进入埃米世代后将会支持半导体厂量产。
