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据报道，近日哈工大宣布研发成功名为“高速超精密激光干涉仪”技术，这项技术是14纳米光刻机的重要技术，可以确保掩膜工作台、双工作台和物镜系统之间复杂的相对位置，实现光刻机的整体套刻精度，解决了光刻机的一项重要技术难题。这项技术获得了世界光子大会“金燧奖”的金奖，证明了技术的含金量。
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