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日本正在研发1nm晶体管材料

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2023年2月,日本产业技术综合研究所 (AIST)与东京都立大学联合宣布,已经成功在二硫化钼 (MoS2) 上形成了层状材料三碲化二锑 (Sb2Te3),并 制造的 n 型 MoS2晶体管具有足够的耐热性以承受半导体制造过程。

一种称为过渡金属二硫化物(TMDC)的材料具有二维晶体结构,作为下一代晶体管沟道的半导体材料受到关注,因为它即使在 1 纳米或更小的原子层区域也能保持高导电性。然而,公共金属电极与MoS2界面之间的高接触电阻阻碍了晶体管性能的提升。

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