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ASML上周已经声明，高端DUV光刻机可以出口，而这也会让他们加快处理相应的订单。 所谓浸没式光刻机，属于193nm（光源）光刻机（分为干式和浸没式），可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。
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