回复彩虹科技：AMAT期待通过该技术提高EUV工艺的生产效率。他还解释说，正在与三星电子、SK海力士进行合作。
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据韩国和台湾多家媒体报道，韩国光刻胶制造商Dongjin Semichem计划在2023年下半年开发用于High NA（NA=0.55）EUV曝光的光刻胶。 据他们透露，ASML计划在2025年开始提供High NA EUV曝光设备的量产型号，用于2纳米以下半导体的量产，而Dongjin Semichem将在2025年上半年应对这一趋势。
