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8月31日消息，尼康公司通过官网发布公告称，将推出型号为“NSR-2205iL1”的5倍缩小的 i-line 步进式光刻机，该产品将用于制造电力和通信半导体以及 MEMS 等各种器件。与现有的尼康 i-line曝光系统相比，NSR-2205iL1 具有出色的经济性，无论晶圆材料如何，都可以优化各种半导体器件的生产。预计将于2024 年夏季上市销售。 尼康表示，NSR-2205iL1 代表了尼康5倍步进技术在过去二十五年中的最重大的更新，将可直接响应客户对这些在芯片制造中发挥重要作用的光刻系统的需求。
