回复黑科技看看:打破阿斯麦的垄断和话语权,期待国产光刻机的突破
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近日佳能CEO御手洗富士夫在接受受访时表示,该公司基于NIL的新型芯片制造设备售价将比ASML的EUV少一位数。从2017年开始,佳能就与铠侠,以及半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)合作,研发基于纳米压印(NIL)的量产技术,在不使用EUV的情况下将制程技术推进到5nm。 佳能表示,这套生产设备的工作原理和ASML光刻机不同,并不利用光学图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上,而是更类似于印刷技术,直接通过压印形成图案。