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佳能纳米压印技术可媲美2nm光刻技术

 彩虹科技

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日本光刻机大厂佳能(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprinted lithography,NIL)设备FPA-1200NZ2C之后,佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示,该公司新的纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路,使得生产先进芯片的技术不再只有少数大型半导体制造商所独享。

佳能半导体设备业务部长岩本和德还表示,如果改进光罩,纳米压印甚至可以生产2nm先进制程的芯片。佳能的纳米压印技术或许将有机会帮助佳能缩小其与ASML的差距。

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回复彩虹科技:光说优点没说缺点。模板寿命低,更换成本高 。因为是需要直接接触压印胶工作的,在接触的过程中,难免会有各种各样的损伤或者污染。模板上的线条很窄,在压力作用下,线条磨损很快,很容易出现缺陷。
回复彩虹科技:都是美国的舔狗,谁先谁后没区别,我们还是要将核心技术掌握在自己手里
回复彩虹科技:佳能此次研发的纳米压印技术,更是将电路线宽缩小到了2nm,这一突破性的进展,将进一步巩固纳米压印技术在半导体制造领域的地位。

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