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CFET结构被誉为半导体行业的未来

 芯闻速递

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互补场效应晶体管（CFET）晶体管结构采用晶体管垂直堆叠结构，能够缓解关断状态下的漏电和晶体管阈值随栅长变化带来的问题，也使得晶体管能够在更小的空间内实现更佳的性能。

CFET结构“初露端倪”，让业界看到了晶体管结构新的发展前景。然而，业内专家预估，CFET结构需要7——10年才能投入商用。
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回复芯闻速递：采用CFET垂直堆叠架构的芯片，相较采用Nanosheet（GAA）架构的器件，面积最多能缩小50%。
回复芯闻速递：采用CFET结构的芯片，需要先解决用激光进行热退火带来的成本问题，才能加快商用的步伐。
回复芯闻速递：台积电制定万亿级晶体管芯片封装计划，确实是一项重要的技术突破。

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