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韩国科学技术院材料科学与工程系Seungbeom Hong教授的研究团队26日宣布，通过与日内瓦大学的国际联合研究，他们在世界上首次发现了“铁电表面的不对称磨损现象”，当这项创新技术用于半导体制造时，与现有工艺相比，无需化学物质和光刻设备即可快速大面积地生产半导体纳米结构图案。 研究小组利用原子力显微镜，通过纳米级金刚石探针对各种铁电材料单晶表面的摩擦和磨损特性施加电场来改变铁电体的极化方向，当进行机械磨损时，发现表面磨损特性会根据偏振极化方向而变化的现象，从而很容易制造其材料的纳米结构图案，该发现也可应用于半导体纳米图案技术。研究小组进一步解释说，可以通过重复的电气开关和机械图案来创建更复杂的纳米级三维结构。
