回复科技少年QAQ：光刻机精度主要受到光刻胶、掩膜光刻图形和光刻机本身误差这三个影响
科技少年QAQ
下载贤集网APP入驻自媒体
“光刻33%法则”在业界被称为“四章法则”，它是在1980年代中期由荷兰ASML公司针对当时主流的步进式光刻机所提出的一种理论。 “光刻33%法则”是指在光刻机的操作过程中，绘制的图案的尺寸在实际制造中可能会有一定的误差。根据法则，光刻机套刻精度主要受到三个因素的影响，分别是光刻胶的性能，掩膜光刻图形的偏差，以及光刻机本身的误差。这三个因素对套刻精度的贡献比例分别为33%。
