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日本科学家研发了一种功耗更低的EUV光刻系统

 微电路观察

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近日日本冲绳科学技术大学（OIST）的Tsumoru Shintake教授带领的研究团队提出了一项全新、大幅简化的面向极紫外（EUV）光刻机的双反射镜系统。

相比传统的至少需要六面反射镜的配置，新的光学投影系统仅使用了两面反射镜，在确保系统维持较高的光学性能的同时，能让EUV光线以超过初始值10%的功率到达晶圆，相比传统系统中仅1%的功率来说，提了高到了原来的10倍，可说是一大突破。

换句话来说，全新的光学系统相对原有的系统来说，功耗可以降低到原来1/10！
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回复微电路观察：当然，目前Tsumoru Shintake教授提出的这项技术方案还是处于理论研究阶段，不过其确实有计划通过示范实验投入实际应用，但最终能否成功商用依然是未知之数。

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