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我国正式官宣突破7nm光刻技术!

 彩虹科技

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近日,工业和信息化部正式发布了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称《指导目录》),这一举措旨在推动我国重大技术装备的创新发展和推广应用,同时加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同效应。

《指导目录》的发布对我国高端制造业的发展具有重要意义。其中,特别引人注目的是电子专用装备目录下的"集成电路生产装备"类别。该类别明确列出了氟化氩光刻机,并对其技术参数做出了具体要求:光源为193纳米,分辨率不大于65纳米,套刻精度不大于8纳米。这一指标的提出,彰显了我国在半导体制造领域追求技术突破的决心。

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