回复电子放大镜：三星电子牛啊，闪存光刻胶用量大减。
电子放大镜
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据韩国媒体The Elec报道，三星电子在生产3D NAND闪存方面取得重大突破，在光刻工艺中大幅缩减了光刻胶（PR）用量，只使用以前一半的光刻胶。减少光刻胶的使用量对三星电子来说，是一项节省成本的措施。 报道称，此前每层涂层需要7—8cc的光刻胶 ，而三星电子通过精确控制涂布机的转速（rpm）以及优化光刻胶涂层后的蚀刻工艺， 现在只需要4—4.5cc 。 三星电子还引入了更厚的氟化氪（KrF）光刻胶。通常情况下，一次工艺只能形成一层涂层，但使用更厚的光刻胶后，三星能够一次形成多个层，从而提高了工艺效率。
