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台积电2nm制程良率又提高了6%,三星越发追赶不上了

 电子分析员

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台积电将于明年下半年开始量产其2nm(N2)制程工艺,目前台积电正在尽最大努力完善该技术,以降低可变性和缺陷密度,从而提高良率。

一位台积电员工最近对外透露,该团队已成功将N2测试芯片的良率提高了6%,为公司客户“节省了数十亿美元”。但这位台积电员工没有透露该代工厂是否提高了 SRAM 测试芯片或逻辑测试芯片的良率。

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