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出路被堵死,俄罗斯宣布自研EUV光刻机

 科技少年QAQ

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俄罗斯已公布自主开发EUV(极紫外光刻)光刻机的路线图,目标是比ASML的光刻机更便宜、更容易制造。

据悉,俄罗斯的自主光刻机采用11.2nm的激光光源,而非ASML标准的13.5nm。这种波长将与现有的EUV设备不兼容,需要俄罗斯开发自己的光刻生态系统,这可能需要十年或更长时间。

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回复科技少年QAQ:激光的难度会很大。不过ASML的方案也不是最优解,只能说是走一步算一步的产物

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