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日本Rapidus晶圆厂首次引入EUV光刻机,计划2027年量产2nm工艺

 汤圆爱科技

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据报道,日本初创晶圆代工厂Rapidus已成功接收其订购的首台ASML EUV光刻机,这是日本境内首次引入量产用EUV光刻设备。

Rapidus也成为日本首家拥有EUV光刻机的公司,由于EUV系统体积庞大,完整设备重达71吨,将分四阶段进行安装,预计本月底在晶圆厂内完成。Rapidus计划2025年春季完成2nm芯片原型开发,并在2027年实现量产,相比之下台积电则计划2025年开始量产2nm芯片。

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