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美国LLNL开发出BAT激光器,有望将 EUV光刻效率提高约 10 倍

 青蛙科技

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美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)宣布开发出了一种名称为大孔径铥 (BAT) 激光器,旨在为极紫外 (EUV) 光刻技术的下一步发展奠定基础。

该激光器的效率号称是目前ASML EUV光刻机中使用的二氧化碳(CO2)激光器的 10 倍,并有望在多年后取代光刻系统中的 CO2 激光器。

最新的由劳伦斯利弗莫尔国家实验室领导的计划,将评估大孔径铥 (BAT) 激光器技术,与当前行业标准的 CO2 激光器相比,有望将 EUV 光源效率提高约 10 倍。

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