回复仪商商情：从源头到成品全程降低污染风险，确保组件在整个工作流程中的高质量。
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埃赛力达科技公司推出新款LINOS UV F-Theta Ronar低释气透镜，专为激光材料加工设计，具有优异耐用性、低释气性能、高端宽带镀膜和优化的扫描性能，适用于半导体、晶圆加工等领域，可应对高功率和短脉冲应用需求，确保长期光学稳定性和减少背向反射，便于系统集成。 主要规格和特性： 减少释气：采用先进的设计和生产工艺，实现优异的低释气性能 优化设计：适用于340 nm和 360 nm紫外波长，采用高端宽带镀膜 精确的扫描性能： 扫描场内的光斑尺寸变化较小，在10 mm扫描光圈下的扫描场范围为 142 mm² x 142 mm²米，15 mm扫描光圈下的光斑尺寸可小至 11 µm 改进的处理能力：可应对高功率和短脉冲应用需求 长期光学稳定性：采用先进技术制造，确保镜头的耐用性和可靠性 优化背向反射：有效减少扫描仪镜面损伤，并延长使用寿命 M85x1机械接口：便于轻松集成到各种系统中
