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Intel两台EUV光刻机已经开始生产,生产效率大大提高

 电子分析员

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Intel去年抢先拿下了第一台EUV极紫外光刻机,目前已经在俄勒冈州Fab D1晶圆厂安装部署了两台,正在紧张地研究测试中。

Intel资深首席工程师Steve Carson透露,迄今为止,两台EUV光刻机已经生产了3万块晶圆,当然不算很多,但别忘了这只是测试和研究使用的,并非商用量产,足以证明Intel对于新光刻机是多么的重视。

Steve Carson还强调,完成同样的工作,新款光刻机可以将曝光次数从3次减少到只需1次,处理步骤也从40多个减少到不足10个,从而大大节省时间和成本。

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回复电子分析员:High-NA EUV光刻机确实牛,曝光次数、处理步骤都大幅减少,分辨率提升到8nm,但这机器调试半年,量产还得等,成本也不低啊。

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