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三星引入首台High-NA EUV光刻机,加快2nm工艺量产

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据韩国媒体报道,三星电子已于本月初在其华城园区引入首台ASML生产的High-NA EUV光刻机——EXE:5000,价值高达5000亿韩元(约合24.88亿元人民币)。

与现有EUV设备相比,High-NA EUV能够实现更窄的电路线宽,从而降低功耗并提升数据处理速度。三星电子计划在完成设备安装后,全面构建2nm工艺生态系统,三星晶圆代工业务部负责人强调,尽管公司在GAA工艺转换上领先,但在商业化方面仍需加速,2nm工艺的快速量产是其首要任务。

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