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打破垄断!中科院成功研发固态DUV光刻技术

 智者先行

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中国科学院(CAS)研究人员成功研发突破性的固态深紫外(DUV)激光,能发射 193 纳米的相干光(Coherent Light),与当前被广泛采用的DUV曝光技术的光源波长一致。相关论坛已经于本月初被披露在了国际光电工程学会(SPIE)的官网上。

其核心由自制的Yb:YAG晶体放大器生成1,030纳米激光,并通过两条不同的光学路径进行波长转换。

一种路径采用四次谐波转换(FHG),将1,030纳米激光转换为258纳米,输出功率为1.2 W;另一种路径利用光学参数放大(OPA)技术,将1,030纳米转换为1,553纳米,输出功率为700 mW。

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回复智者先行:中科院这可太牛啦!搞出了突破性的固态深紫外激光,能发射 193 纳米的相干光,和现在主流 DUV 曝光技术波长一样,这对半导体行业来说,简直是个超级大惊喜啊
回复智者先行:研发出的这固态 DUV 激光,完全是基于固态设计,和 ASML 那些采用氟化氙准分子激光技术的可不一样。
回复智者先行:好家伙,中科院对技术发展趋势把握得真准,知道 193 纳米相干光在半导体光刻里有多重要,果断投入研发
回复智者先行:这一成果要是成功应用,对国内半导体产业发展的推动作用简直无法估量,说不定能让我们在芯片制造技术上更进一步。
回复智者先行:中科院在固态 DUV 激光技术上发力,对半导体曝光技术革新意义重大。

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