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不需要EUV光刻机也能实现5nm工艺?

 老刘说科技

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大家都知道,当下先进工艺(尤其是7nm以下),基本都依赖ASML的EUV极紫外光刻机。前段时间,世界上就有一种“特殊”5nm的消息传出,它是怎么来的呢?

这种5nm采用了完全不一样的技术路线,避开了EUV光刻机的依赖,采用一种步进扫描光刻机,通过多重曝光实现5nm线宽。另外,刻蚀机采用某5nm刻蚀设备,精度达到原子级,号称刻蚀速率比以往水平提升15%。不仅如此,量测设备也采用了新的电子束量测系统,实现nm级缺陷检测的替代。

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回复老刘说科技:有办法,就是麻烦,成本高,堆积次数增加。你就依然没有强竞争力。消费级芯片要保证的是成品率和价格低。别天天吹自己搞的可以绕过什么
回复老刘说科技:那不还是多重曝光么,多重曝光一次两次还好,多次失真良率功耗拉胯,最好能双曝就到5nm那就很nice了

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