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台积电:1.4nm以上工艺其实不需要高NA EUV光刻机

 科技少年QAQ

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近日,台积电重申,1.4nm级工艺技术不需要高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,目前找不到非用不可的理由。

台积电在阿姆斯特丹举行的欧洲技术研讨会上重申了其长期以来对下一代高NA EUV光刻设备的立场。该公司的下一代工艺技术,包括A16(1.6纳米级)和A14(1.4纳米级)工艺技术,不需要这些最高端的光刻系统。因此,台积电不会在这些节点上采用高数值孔径EUV设备。

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