回复科技果汁:2027年,反攻开始,就算最高端比不上,中低端碾压
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近日ASML CEO接受媒体采访时表示,中国早已研发国产光刻设备。 在这位CEO看来,尽管中国在赶超ASML的技术方面还有很长的路要走,但美国出台的打压措施只会适得其反,让中国“更努力取得成功”。他还称,与其打压中国等竞争对手,不如将注意力放在创新上。 在这之前,中国科学院成功研发除了突破性的固态DUV(深紫外)激光,可发射193nm的相干光,与目前主流的DUV曝光波长一致,能将半导体工艺推进至3nm。