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ASML CEO表示,美国的打压措施只会让中国光刻机研发得更快

 科技果汁

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近日ASML CEO接受媒体采访时表示,中国早已研发国产光刻设备。

在这位CEO看来,尽管中国在赶超ASML的技术方面还有很长的路要走,但美国出台的打压措施只会适得其反,让中国“更努力取得成功”。他还称,与其打压中国等竞争对手,不如将注意力放在创新上。

在这之前,中国科学院成功研发除了突破性的固态DUV(深紫外)激光,可发射193nm的相干光,与目前主流的DUV曝光波长一致,能将半导体工艺推进至3nm。

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回复科技果汁: 低端(成熟的28纳米)芯片早已占了三分之一的市场,中端(7纳米左右)的就比较少了,好像才5%左右,等技术可以大批量生产,对世界芯片格局将是一场惊喜
回复科技果汁: 主要是7NM的产线设备禁运要解决纯国产产链需要时间,目前产能太小了,需要个爬坡的时间
回复科技果汁:特朗普都把在美留学生赶出美国,这种短视的行为正中龙国下怀。人才是一个国家的软实力,任何金钱都换不到的生产力。之前中国落后于美国,不就是因为自己底子薄,不能广招贤才。
回复科技果汁:美国是吸引人才,造人才并不是特长,其他国家也有很多名校,我们也是提供人才的国家之一
回复科技果汁:川建国可是真爱中国,一边用实际行动打击殖人润人,一边把人才推回中国发展高端产业,一边不让中国车入欧美,让本土车企日系缺乏竞争
回复科技果汁:加油吧 华x x米 都等着下锅呢如果光刻搞定 ov应该会紧跟。新能源车的高算力 芯片的需求也很大
回复科技果汁:DUV做3nm以下比较难,现在的工艺把除了“多重”以外的邪招用上,最极限就是38nm。
回复科技果汁:我假设我们新的DUV用上假设的固体光源,出来的光可以做到32nm。所以,我们还是得依赖EUV 去做 小于5nm制程的芯片,不然亏 。
回复科技果汁:小道消息是用内存条进行试产,因为内存结构简单,等熟练度和产能提升,开始造SOC

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