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ASML开始研发下一代EUV光刻机

 微电路观察

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全球最大半导体设备龙头ASML已着手研发下一代Hyper NA EUV先进光刻机，为未来十年的芯片产业做准备。

Jos Benschop表示，ASML及独家光学合作伙伴蔡司（Carl Zeiss）正在研究可在单次曝光中印刷出分辨率精细到5nm的EUV光刻机，可满足2035年之后的制程需求。

据悉，ASML目前出货的最先进光刻机，可达到单次曝光8nm分辨率。 而之前老旧光刻机必须多次曝光才能达到类似分辨率，不仅效率较低，而且良率也有限。
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回复微电路观察：ASML 不愧是大佬！研发下一代光刻机，单次曝光 5nm 分辨率，2035 年后芯片制程稳了！
回复微电路观察：单次曝光就能到 5nm，效率和良率都稳了！老旧光刻机得 “哭晕”，差距太大了！

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