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中科院利用大口径离轴反射曝光系统制作米级脉冲压缩光栅的创新方案

 科技少年QAQ

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目前,国内外现有的光栅制备技术上包括机械刻划、细光束扫描拼接曝光、透射静态干涉场曝光等现有技术都达不到制备如此双向米级大尺寸光栅能力。

近日,中国科学院上海光学精密机械研究所提出了利用大口径离轴反射曝光系统制作米级脉冲压缩光栅的创新方案,其核心是利用2个大口径高精度的离轴抛物面反射镜形成两束平行光大范围构造均匀的曝光光场。

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回复科技少年QAQ:按照这个精度光刻机的物镜也可以搞定了? 所谓“极致”光滑,根据光场理论反演推算,若是把这面镜子放大到上海市大小,其“最高峰”相当于要控制在2mm以下;而对于镜子上10mm空间周期以下的误差,米级元件任一区域误差起伏要求控制在1纳米以内,相当于头发丝直径的五万分之一;如此大口径元件在全空间频段均达到纳米/亚纳米级的制造精度称得上是人类制造皇冠上的明珠。
回复科技少年QAQ:制作高品质单频激光光源的新方法:本人下文中的方法经专家审核后发表在由中科院主办,中科协协办的“科学智慧火花”网上了

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